2025年6月20日開催「ポリゴンナイト」3DCG背景モデラーが教えるベイク技術セミナー

ベイク技術セミナー

開催日:6月20日

ベイク技術セミナー
ベイクって何?どうして3DCG制作で重要なの?
ベイクは光の当たり方や影などの情報を事前に計算してテクスチャに保存する処理で、リアルタイム処理を軽減し高品質な3DCG制作に欠かせません。
このセミナーでどんなことが学べるの?
ベイク処理の落とし穴やトラブルの原因、対処法、設計の考え方をプロの背景モデラー視点で学べ、3DCG制作のクオリティ向上に役立ちます。

プロの背景モデラーが教える!良いテクスチャは良いベイクから

株式会社クリーク・アンド・リバー社(C&R社)は、2025年6月20日(金)に、3DCGクリエイターを対象にした無料のオンラインセミナー「ポリゴンナイト~良いテクスチャは、良いベイクから~」を開催します。このセミナーでは、プロの背景モデラーが「現象→原因→設計」の視点から、ベイクエラーに強くなるための知識と技術を提供します。

セミナーの詳細やお申し込みは、以下のリンクからご確認いただけます。

参加申し込みの締切は、2025年6月19日(木)18:00です。定員は100名となっており、早めの申し込みを推奨します。

プロの背景モデラーが教える!良いテクスチャは良いベイクから!?6/20(金)「現象→原因→設計で学ぶ、ベイクエラーに強くなるセミナー」開催(東京都港区) 画像 2

セミナーの内容と目的

「ベイク」とは、リアルタイムで処理すると重くなる情報(光の当たり方、影、法線など)を事前に計算し、テクスチャやマップに保存する処理を指します。最近では、Substance Painterなどのツールを使用してプロシージャルにテクスチャを構築することが主流となっていますが、ベイクを「なんとなく」で済ませてしまうと、どれだけ優れたツールを使ってもクオリティは伸び悩むことがあります。

このセミナーでは、C&R Creative Studiosの3DCG専門開発スタジオ「COYOTE 3DCG STUDIO」から3名のクリエイターが講師として登壇し、経験者でも陥りがちなベイクの落とし穴を解説します。具体的には、トラブルの原因とその対処法、そして「なぜそうするのか?」という設計の考え方まで、背景モデラーの視点でわかりやすく説明します。

プロの背景モデラーが教える!良いテクスチャは良いベイクから!?6/20(金)「現象→原因→設計で学ぶ、ベイクエラーに強くなるセミナー」開催(東京都港区) 画像 3

セミナーの詳細情報

以下に、セミナーの具体的な情報をまとめました。

項目 詳細
日時 2025年6月20日(金)19:30~21:00
場所 株式会社クリーク・アンド・リバー社 東京本社 5階 コミュニケーションスペース
東京都港区新橋4-1-1 新虎通りCORE
講師 COYOTE 3DCG STUDIOのエンバイロメントセクションの専門家たち
対象者 3DCGデザイナー、3D背景モデラー、3Dキャラクターモデラー、3Dモーションデザイナー、3Dアニメーター、3Dを学ぶ学生、テクニカルアーティスト
参加費 1000円(学生は無料。学生証提示が必要)
定員 100名
プロの背景モデラーが教える!良いテクスチャは良いベイクから!?6/20(金)「現象→原因→設計で学ぶ、ベイクエラーに強くなるセミナー」開催(東京都港区) 画像 4

講師の紹介

本セミナーには、以下の講師が登壇します。

  • 五十嵐 鉄太 – エンバイロメントセクション・ディレクター
    2014年にC&R社でキャリアをスタートし、2015年6月にCOYOTE 3DCG STUDIOに参加。現在はディレクターとしてメンバー育成と組織運営に尽力しています。
  • ボンダレンコ・ニコライ – エンバイロメントセクション・デザイナー
    ロシア出身で、大学在学中にヨーロッパの会社で3Dアーティストとしてキャリアを開始。2024年にC&R COYOTE 3DCG STUDIOに入社し、現在は背景デザイナーとしてアセット制作を担当しています。
  • 山崎 瑛美 – エンバイロメントセクション・デザイナー
    大学卒業後に新卒でC&R社 COYOTE 3DCG STUDIOに入社。モバイルゲームや海外向けタイトルのアセット制作を担当しています。

クリーク・アンド・リバー社について

クリーク・アンド・リバー社は、1990年に設立され、「プロフェッショナルの生涯価値の向上」と「クライアントの価値創造への貢献」をミッションに掲げています。映像、ゲーム、Web、広告・出版、作家、舞台芸術、建築、AI/DX、アスリートといった多岐にわたる分野のプロフェッショナルに特化したエージェンシー事業を展開しています。

C&R社は、クリエイターのキャリアアップやスキルアップをサポートするため、様々なセミナーやイベントを開催しています。今後も、プロフェッショナルの叡智を結集し、新しい価値を生み出すビジネスクリエイションカンパニーとして、人々の幸せに貢献することを目指しています。

まとめ

今回のセミナー「ポリゴンナイト~良いテクスチャは、良いベイクから~」は、3DCGクリエイターにとって非常に有益な内容となっています。ベイクの重要性やトラブルの原因、設計の考え方を学ぶことで、アセット制作のクオリティ向上に繋がるでしょう。

以下に、セミナーの要点を整理しました。

項目 詳細
セミナー名 ポリゴンナイト~良いテクスチャは、良いベイクから~
日時 2025年6月20日(金)19:30~21:00
対象者 3DCGデザイナー、背景モデラーなど
参加費 1000円(学生は無料)
定員 100名

このセミナーを通じて、より高品質な3DCG制作を目指す機会を得られることでしょう。

参考リンク: